Morfología y estabilidad térmica de películas delgadas de fluoruro de aluminio sobre Cu(100)
Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas...
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| Formato: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2011 |
| País: | Argentina |
| Recursos: | Universidad Nacional de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales |
| Repositorio: | Biblioteca Digital (UBA-FCEN) |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | afa:afa_v23_n02_p085 |
| Acesso em linha: | https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v23_n02_p085 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palavra-chave: | FLUORURO DE ALUMINIO PELICULAS ULTRA-DELGADAS ESTABILIDAD TERMICA RADIOLISIS ESPINTRONICA ALUMINIUM FLUORIDE ULTRATHIN LAYERS THERMAL STABILITY RADIOLYSIS SPINTRONICS |
| Resumo: | Se estudió el crecimiento de películas epitaxiales ultra-delgadas de fluoruro de aluminio en Cu(100) mediante una combinación de técnicas experimentales de física de superficies. La deposición a temperatura ambiente resulta en la decoración de escalones seguida por la formación de islas dendríticas bidimensionales que coalescen para formar películas porosas. Las películas ultra-delgadas (de hasta dos monocapas de espesor) resultan morfológicamente inestables al calentar; parte de la película deja de mojar la superficie del sustrato a alrededor de 430 K con la formación de islas tridimensionales y dejando expuesta un área extensa de la superficie de Cu. En cambio, películas de varios nanómetros de espesor son estables hasta temperaturas cercanas a los 730 K cuando ocurre la desorción molecular. El efecto de la irradiación electrónica también ha sido caracterizado mediante diferentes técnicas espectroscópicas; encontrando que incluso dosis de irradiación reducidas de electrones pueden producir una descomposición significativa del fluoruro de aluminio, resultando en la liberación de moléculas de flúor y la formación de aluminio metálico. Estas características hacen del fluoruro de aluminio un material interesante para aplicaciones en espintrónica |
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