Mata, M. d. l., Magén, C., Caroff, P., & Arbiol, J. (2014). Atomic scale strain relaxation in axial semiconductor III-V nanowire heterostructures.
Citación estilo ChicagoMata, María de la, César Magén, Philippe Caroff, y Jordi Arbiol. Atomic Scale Strain Relaxation in Axial Semiconductor III-V Nanowire Heterostructures. 2014.
Cita MLAMata, María de la, César Magén, Philippe Caroff, y Jordi Arbiol. Atomic Scale Strain Relaxation in Axial Semiconductor III-V Nanowire Heterostructures. 2014.
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