Cita APA

Porti i Pujal, M. (2003). Caracterització a escala nanomètrica de la degradació I. Ruptura dielèctrica del SiO2 en dispositius MOS mitjançant CAFM.

Citación estilo Chicago

Porti i Pujal, Marc. Caracterització a Escala Nanomètrica De La Degradació I. Ruptura Dielèctrica Del SiO2 En Dispositius MOS Mitjançant CAFM. 2003.

Cita MLA

Porti i Pujal, Marc. Caracterització a Escala Nanomètrica De La Degradació I. Ruptura Dielèctrica Del SiO2 En Dispositius MOS Mitjançant CAFM. 2003.