Garrido Fernández, B. (1993). Modificaciones estructurales en el óxido de silicio térmico inducidas por los procesos tecnológicos en microelectrónica: Aplicación de la espectroscopía infrarroja.
Citación estilo ChicagoGarrido Fernández, Blas. Modificaciones Estructurales En El óxido De Silicio Térmico Inducidas Por Los Procesos Tecnológicos En Microelectrónica: Aplicación De La Espectroscopía Infrarroja. 1993.
Cita MLAGarrido Fernández, Blas. Modificaciones Estructurales En El óxido De Silicio Térmico Inducidas Por Los Procesos Tecnológicos En Microelectrónica: Aplicación De La Espectroscopía Infrarroja. 1993.
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