Gottlieb, S., Rösner, B., Evangelio Araujo, L., Fernández Regúlez, M., Nogales, A., García-Gutiérrez, M. C., . . . Pérez Murano, F. (2019). Self-assembly morphology of block copolymers in sub-10 nm topographical guiding patterns.
Citação norma ChicagoGottlieb, Steven|||0000-0003-1642-8602, et al. Self-assembly Morphology of Block Copolymers in Sub-10 Nm Topographical Guiding Patterns. 2019.
Citação norma MLAGottlieb, Steven|||0000-0003-1642-8602, et al. Self-assembly Morphology of Block Copolymers in Sub-10 Nm Topographical Guiding Patterns. 2019.
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