Lyu, J., Fina, I., Solanas, R., Fontcuberta, J., & Sánchez Barrera, F. (2018). Robust ferroelectricity in epitaxial Hf1/2Zr1/2O2 thin films.
Citación estilo ChicagoLyu, Jike, Ignasi Fina, Raul Solanas, Josep Fontcuberta, y Florencio Sánchez Barrera. Robust Ferroelectricity in Epitaxial Hf1/2Zr1/2O2 Thin Films. 2018.
Cita MLALyu, Jike, et al. Robust Ferroelectricity in Epitaxial Hf1/2Zr1/2O2 Thin Films. 2018.
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